板级验证结果表明实现了既定目标，与标准MCU 兼容，系统运行稳定。 此结构能同时从四个并行存储器中读取蝶形运算所需的4个操作数，极大地提高了处理速度。 此结构控制单元简单，便于模块化设计。 在系统时钟为100MHz时，1024点18位复数FFT的计算时间为13μs… 世宏科技(苏州)有限公司)摘 要：本文回顾了模拟和数字集成电路设计EDA工具的发展历程，详细地分析了数字电路设计流程，指出在当前深亚微米集成电路设计中存在的问题及EDA工具发展动向。
PIE(制程整合工程师)详细介绍 【本版必看】PIE（制程整合工程师）详细介绍！ 谨以此帖祝贺本版帖子过千，并献给我的师傅！ PIE确实不容易，这句话作为开场白。 很多人都想做PIE，包括应届生，有经验的module，我想原因很简单，在fab中，PIE学到东西最多，技术含量最高，最容易跳槽。 事实的确如此，我们team到现在没有一个超过3年经验的PIE，因为老人全部跳槽了。
iclayout: 绘制
对于真正想学好版图设计的，不只是会画版图而已，还需要知道各种器件的电学性能，电路的一些性能，工艺方面也要很清楚。 Verilog数字VLSI设计教程Lab01详细流程，包括展示了修改的代码，和工具使用教程，并展示了实验结果。
针对边界扫描主控器常规实现方案执行速度慢,与通用处理器配合的专用边界扫描接口芯片仍然是依靠处理器运行边界扫描软件,测试速度不高,设计灵活性受到了接口芯片的限制的问题,提出了一种基于VHDL语言描述、FPGA实现的… 利用现场可编程门阵列丰富的逻辑资源，虚拟出传统微控制器的处理器，添加Wishbone总线，将处理器与通用外设连接构成一个虚拟的微控制器平台，并使用硬件描述语言Verilog和VHDL,自底向上设计AVR处理器，与通用外设… 为了提高JPEG2000图像压缩速度，提出一种基于提升算法的二维离散9/7小波变换（DWT）Mesh结构的VLSI设计方案，利用这种Mesh结构的VLSI能够实现并行处理一个图像的所有像素点。 这种并行处理的Mesh结构可提高小波变换… 使用硬件描述语言，自底向上设计处理MIPS,并且与几类通用外设互连组成系统，使用Virtex-Ⅱ Pro系列FPGA进行板级验证。
iclayout: 版图设计 和 FAB工艺制作 的区别
关键词：深亚微米；EDA工具… 本文基于VLSI划分问题的需要,提出了一种VLSI设计到赋权超图转换算法.该算法解决的关键问题是,它读取和遍历Verilog语言描述的树状结构VLSI设计,将其转换为赋权超图并存储为指定的文件存储格式,从而有效地将VLSI划分… 光刻（Photolithography）的输出是光刻胶上的图形，是需要一系列工艺的过程，是将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程，是将IC版图的一些数据和结构临时“复制”到硅片上的过程。 光刻利用曝光和显影在光刻胶层上“画上”需要的图形，这样获得的图形用作Etching（蚀刻）工艺或者implantation（我个人理解叫更深的掺杂doping）的mask。 本篇文章将根据我们在 CMOS 制造系列中学习的制造步骤跟进一步理解 CMOS 布局Layout。 光刻是将图案从掩模转移到基板的过程，Layout版图设计是绘制制造过程中使用的掩模MASK。
